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| ディスコHOME > ニュースリリース |
LED向けサファイア基板の薄化工程における全自動化プロセスを開発株式会社ディスコ(本社:東京都大田区、社長:関家一馬)は、フルオートマチックグラインダ・ポリッシャDGP8761を用いた、LED向けサファイア基板薄化(研削・研磨)工程の全自動化プロセスを開発しました。今回の開発により、LED製造に関わる加工ステップの短縮、環境負荷の低減を実現しました。 LED基板として採用されているサファイアは加工難易度が高い素材です。そのため従来の薄化加工では、研削・ラッピング・研磨・洗浄等の各プロセスで異なる装置を使用しており、プロセスの全自動化が期待されていました。さらに、複数の装置で加工をおこなうため、各プロセス・装置間でワークの搬送などを手作業でおこなう必要があり、ランニングコストが課題とされていました。 そこで当社は、サファイア基板の薄化(研削・研磨)工程を1台の装置で全自動にて完結させるプロセスを開発しました。
ウェーハ薄化後のダイシング工程においては、当社はステルスダイシング(SD・浜松ホトニクスと共同開発)とアブレーション加工を推奨しています。 SDはサファイア基板の内部にレーザエネルギーを集光し、ここで形成された改質層を基点にブレーキング等で個片化する技術です。SDによる加工は、エピ層に与える熱影響が少ないため、加工後の輝度低下がほとんどありません。よっておもにハイエンド製品向け高輝度LEDの量産手段として採用されています。 アブレーション加工は、微小なエリアにレーザエネルギーを集中し、固体を昇華・蒸発させる加工方法です。これにより基板にグルービング(溝入れ)を施し、ここを起点にブレーキング、個片化します。SDと比較して数%の輝度低下が見られる場合がありますが、初期コストに優位性があるため、おもに中~高輝度のLED向けに採用されています。 参考:レーザによるサファイア加工
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