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干式抛光法(消除应力方法)

解决方案

近年来,随着电脑、手机等电子产品中的IC半导体封装元件越来越趋向于小型化、高集成化,市场也要求半导体封装元件中的电子元器件朝着更小型化、更薄型化方向发展。但是,由于对电子元件晶片实施薄型化加工,会造成芯片因强度降低而在组装工序中出现破损、以及因翘曲增大而使层叠式封装元件的接线头接合变得困难。
因此、为了消除上述的各种不良因素,有效地改善加工质量,可以考虑在研削加工工序后导入应力消除加工方法。
应力消除加工方法,主要有以下4种,在这里将具体介绍干式抛光法。

图1.应力消除方法概要

应用技术

通过在背面研削加工工艺中增加干式抛光工序,除去因研削加工而产生的研削变质层,能够进一步提高晶片的抗折强度。使用干式抛光,主要可获得以下3种效果。

  1. 背面的镜面化
  2. 翘曲量的减少
  3. 抗折强度的提高

如图2所示,以球压式抗折强度的测试结果作为去除研削变质层的加工指标,我公司建议去除量为2 µm。

図2. 干式抛光去除量和球压式抗折强度的关系
図2. 干式抛光去除量和球压式抗折强度的关系

设备

已经形成一组功能完整的产品系列,具有良好的扩展性和广泛的应用性。可满足客户不同的使用环境和加工要求。

磨轮

运用迪思科公司独特的技术,开发出应力消除应力专用的干式抛光磨轮。

<特点>

  • 无金刚石磨粒
    无研削痕加工
  • 固定磨粒磨轮
    不使用化学研磨液等药液=对环境污染小,可只使用磨轮进行加工。
  • 干式加工
    由于在加工过程中,不使用水和化学研磨液,所以能够降低客户的运行成本。

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